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大尺寸微觀形貌儀白光干涉測(cè)量

簡(jiǎn)要描述:SuperViewW3大尺寸微觀形貌儀白光干涉測(cè)量各種產(chǎn)品、部件和材料表面的粗糙度、波紋度、面形輪廓、表面缺陷、磨損情況、腐蝕情況、孔隙間隙、臺(tái)階高度、彎曲變形情況、加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測(cè)量和分析。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造及封裝工藝檢測(cè)、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學(xué)加工、微納材料及制造、汽車零部件、MEMS器件等超精密加工行業(yè)及航空航天、高校科研院所等領(lǐng)域中。

  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-08-09
  • 訪  問(wèn)  量:846

詳細(xì)介紹

品牌中圖儀器產(chǎn)地國(guó)產(chǎn)
加工定制

在半導(dǎo)體領(lǐng)域中,SuperViewW3大尺寸微觀形貌儀白光干涉測(cè)量同步支持6、8、12英寸三種規(guī)格的晶圓片測(cè)量,并可一鍵實(shí)現(xiàn)三種規(guī)格的真空吸盤的自動(dòng)切換以適配不同尺寸晶圓。可以自動(dòng)測(cè)量研磨工藝后減薄片的粗糙度,只需一鍵,即可測(cè)量數(shù)十個(gè)小區(qū)域的粗糙度求取均值;還可以測(cè)量晶圓制造工藝中鍍膜臺(tái)階的高度,覆蓋從1nm~1mm的測(cè)量范圍,實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量。


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SuperViewW3大尺寸微觀形貌儀白光干涉測(cè)量以白光干涉技術(shù)為原理、結(jié)合精密Z向掃描模塊、3D 建模算法等對(duì)器件表面進(jìn)行非接觸式掃描并建立表面3D圖像,通過(guò)系統(tǒng)軟件對(duì)器件表面3D圖像進(jìn)行數(shù)據(jù)處理與分析,并獲取反映器件表面質(zhì)量的2D、3D參數(shù)。可測(cè)各類從超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面,從納米到微米級(jí)別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等。


產(chǎn)品功能

1) 樣件測(cè)量能力:滿足從超光滑到粗糙、鏡面到全透明或黑色材質(zhì)等所有類型樣件表面的測(cè)量;

2) 自動(dòng)測(cè)量功能:自動(dòng)單區(qū)域測(cè)量功能、自動(dòng)多區(qū)域測(cè)量功能、自動(dòng)拼接測(cè)量功能;

3) 編程測(cè)量功能:可預(yù)先配置數(shù)據(jù)處理和分析步驟,結(jié)合自動(dòng)測(cè)量功能,實(shí)現(xiàn)一鍵測(cè)量;

4) 數(shù)據(jù)處理功能:提供位置調(diào)整、去噪、濾波、提取四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能;

5) 數(shù)據(jù)分析功能:提供粗糙度分析、幾何輪廓分析、結(jié)構(gòu)分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能。

6) 批量分析功能:可根據(jù)需求參數(shù)定制數(shù)據(jù)處理和分析模板,針對(duì)同類型參數(shù)實(shí)現(xiàn)一鍵批量分析;


半導(dǎo)體領(lǐng)域?qū)m?xiàng)產(chǎn)品功能

1)同步支持6、8、12英寸三種規(guī)格的晶圓片測(cè)量,并可一鍵實(shí)現(xiàn)三種規(guī)格的真空吸盤的自動(dòng)切換以適配不同尺寸晶圓;

2)具備研磨工藝后減薄片的粗糙度自動(dòng)測(cè)量功能,能夠一鍵測(cè)量數(shù)十個(gè)小區(qū)域的粗糙度求取均值;

3)具備晶圓制造工藝中鍍膜臺(tái)階高度的測(cè)量,覆蓋從1nm~1mm的測(cè)量范圍,實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量;


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SuperViewW3可以對(duì)各種產(chǎn)品、部件和材料表面的粗糙度、波紋度、面形輪廓、表面缺陷、磨損情況、腐蝕情況、孔隙間隙、臺(tái)階高度、彎曲變形情況、加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測(cè)量和分析。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造及封裝工藝檢測(cè)、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學(xué)加工、微納材料及制造、汽車零部件、MEMS器件等超精密加工行業(yè)及航天、高??蒲性核阮I(lǐng)域中。

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